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離子注入設(shè)備
可對(duì)應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30
可對(duì)應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30
低加速、高濃度對(duì)應(yīng)的離子注入設(shè)備。
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高能對(duì)應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400
高能對(duì)應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400
SOPHI-400
可達(dá)2400KeV的高能離子注入設(shè)備。
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研究開(kāi)發(fā)用中電流離子注入設(shè)備IMX-3500
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IMX-3500
中電流離子注入裝置IMX-3500為最大能量200keV、對(duì)應(yīng)最大晶圓尺寸8inch的離子注入裝置,適用于大學(xué)等機(jī)構(gòu)的研究開(kāi)發(fā)。
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SiC用高溫離子注入設(shè)備 IH-860DSIC
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IH-860系列
搭載了高溫ESC(靜電吸附卡盤(pán))的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。
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