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• 可實(shí)現(xiàn)自動連續(xù)高溫處理注入
• 1價離子可注入至350keV、2價離子可注入至700keV
(Option:1價離子可注入至430keV、2價離子可注入至860keV)
• 通過Dual-End-Station(雙工位)實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能;
(A系4"高溫ESC/B系3"高溫ESC、A系6"高溫ESC/B系6"常溫ESC等等,可配合客戶的希望就行規(guī)格配置)
• 可減輕操作員的負(fù)擔(dān)
• 緊湊式設(shè)計
• 可大范圍對應(yīng)從試作到量產(chǎn)的各類需求
• 對應(yīng)SiC的離子注入裝置。