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• 電子設(shè)備
  • 研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570
    研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570

    NLD系列

    研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科獨創(chuàng)的磁性中性線（NLD- Neutral Loop Discharge）等離子源的裝置，此NLD技術(shù)可實現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子。

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  • Load-lock式Plasma CVD設(shè)備 CC-200/400
    Load-lock式Plasma CVD設(shè)備 CC-200/400

    CC-200/400系列

    Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對應(yīng)從研究開發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備。

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  • Load-lock式濺射設(shè)備CS-200
    Load-lock式濺射設(shè)備CS-200

    CS-200系列

    Load-lock式濺射設(shè)備CS-200，是可對應(yīng)從研究開發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。

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  • Multi-chamber型濺射裝置SME-200系列
    Multi-chamber型濺射裝置SME-200系列

    SME-200系列

    SME-200系列是可搭載多個工藝腔體（最大搭載3室的200E，最大5室的200J，及最大搭載7室的200）的Multi-Chamber式濺射設(shè)備。

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  • 干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX
    干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX

    NE-950系列

    對應(yīng)LED量產(chǎn)專用的干法刻蝕設(shè)備?NE-950EX?相對我司以往設(shè)備實現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛發(fā)科獨自開發(fā)的星型電極的干法刻蝕設(shè)備。

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  • 對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700
    對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700

    對應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- Neutral Loop Discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（此愛發(fā)科獨創(chuàng)的NLD技術(shù)設(shè)備可實現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）

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  • 設(shè)備(按類型分)
    蒸發(fā)設(shè)備 退火設(shè)備 蒸餾設(shè)備 氦檢漏設(shè)備 凍結(jié)干燥設(shè)備 卷繞設(shè)備 真空爐 CVD設(shè)備 離子注入設(shè)備 去膠設(shè)備 濺射設(shè)備 刻蝕設(shè)備 其他
  • 設(shè)備(按用途分)
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