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• Load-lock式Plasma CVD設(shè)備 CC-200/400
  

  Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對應(yīng)從研究開發(fā)到量產(chǎn)的設(shè)備。

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  • 產(chǎn)品特性 / Product characteristics
  • • 27.12MHz高密度等離子制程
    • SiH₄系：SiO2、SiN_x、SiON、a-Si、TEOS系：可對應(yīng)SiO₂膜
    • 以CF₄+O₂ Plasma實現(xiàn)腔體清潔功能
    • 可對應(yīng)有機(jī)EL（OLED）的低溫成膜用Heater
    • 使用Tray可搬送多種基板尺寸
    • 通過使用真空Box實現(xiàn)C系列的間接連續(xù)制程（Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200）
     
  • 產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
  • • 功率器件
    • LED、LD、高速Device等化合物相關(guān)
    • 有機(jī)EL（OLED）開發(fā)
    • 太陽電池開發(fā)
    • MEMS
     
  • 產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters
• 產(chǎn)品系列

  • 設(shè)備(按類型分)
    蒸發(fā)設(shè)備 退火設(shè)備 蒸餾設(shè)備 氦檢漏設(shè)備 凍結(jié)干燥設(shè)備 卷繞設(shè)備 真空爐 CVD設(shè)備 離子注入設(shè)備 去膠設(shè)備 濺射設(shè)備 刻蝕設(shè)備 其他
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