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• 干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX
  

  對應(yīng)LED量產(chǎn)專用的干法刻蝕設(shè)備?NE-950EX?相對我司以往設(shè)備實現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源和愛發(fā)科自有的星型電極的干法刻蝕設(shè)備。

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  若想了解更多請致電182-2185-4021

  • 產(chǎn)品特性 / Product characteristics

  •  •      4inch晶圓可放置7片同時處理，6inch晶圓可實現(xiàn)3片同時處理，小尺寸晶圓方面，2inch晶圓可實現(xiàn)29片、3英寸可對應(yīng)12片同時處理。

    • 搭載了在化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域擁有600臺以上出貨實績的有磁場ICP（ISM）高密度等離子源。
    • 高生產(chǎn)性（比以前提高140%）。
            ※1 愛發(fā)科專利第3188353號
    • 為防止RF投入窗的污染搭載了愛發(fā)科星型電極。
            ※2 愛發(fā)科專利第3429391號
    • 徹底貫徹Depo對策，實現(xiàn)了維護(hù)便利、長期穩(wěn)定、高信賴性的硬件。
    • 擁有豐富的工藝應(yīng)用的干法刻蝕技術(shù)（GaN藍(lán)寶石、各種metal、ITO、SiC、AlN、ZnO、4元系化合物半導(dǎo)體）。
    • 豐富的可選機(jī)能。
     

     

  • 產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application

  •  •       對應(yīng)LED的GaN、藍(lán)寶石、各種金屬、ITO等的干法刻蝕設(shè)備

     
  • 產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters
• 產(chǎn)品系列

  • 設(shè)備(按類型分)
    蒸發(fā)設(shè)備 退火設(shè)備 蒸餾設(shè)備 氦檢漏設(shè)備 凍結(jié)干燥設(shè)備 卷繞設(shè)備 真空爐 CVD設(shè)備 離子注入設(shè)備 去膠設(shè)備 濺射設(shè)備 刻蝕設(shè)備 其他
  • 設(shè)備(按用途分)
    FPD&PV設(shè)備 半導(dǎo)體設(shè)備 電子設(shè)備 產(chǎn)業(yè)機(jī)器
  • 真空標(biāo)準(zhǔn)部件
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