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• 枚葉式等離子CVD設(shè)備CMD系列
  

  CMD系列是用SiH4和TEOS成膜的a-Si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式CVD設(shè)備。

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  • 產(chǎn)品特性 / Product characteristics

  • • 和傳統(tǒng)的工藝溫度相比，每個unit的驅(qū)動系統(tǒng)可以在更高的溫度下運行、開發(fā)真空搬送機(jī)械手來實現(xiàn)搬送系統(tǒng)的穩(wěn)定性。

    • 通過改善反應(yīng)室的內(nèi)部結(jié)構(gòu)、氣體供給系統(tǒng)，達(dá)到長期穩(wěn)定的TEOS(SiO2)膜速率。

    • 通過加熱反應(yīng)氣體的通道，在排除設(shè)備中的氣體排出、抑制配管Trap未使用時的配管副生成物的粘附、可以縮短保養(yǎng)時間。

    • 可以輕松的完成單獨基板管理，如成膜條件。

  • 產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application

  • • 低溫P-Si、α-Si TFT

  • 產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters
• 產(chǎn)品系列

  • 設(shè)備(按類型分)
    蒸發(fā)設(shè)備 退火設(shè)備 蒸餾設(shè)備 氦檢漏設(shè)備 凍結(jié)干燥設(shè)備 卷繞設(shè)備 真空爐 CVD設(shè)備 離子注入設(shè)備 去膠設(shè)備 濺射設(shè)備 刻蝕設(shè)備 其他
  • 設(shè)備(按用途分)
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