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• SiC用高溫離子注入設(shè)備 IH-860DSIC
  

  搭載了高溫ESC（靜電吸附卡盤）的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。

  購(gòu)買咨詢

  若想了解更多請(qǐng)致電182-2185-4021

  • 產(chǎn)品特性 / Product characteristics

  • • 可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)連續(xù)高溫處理注入

    • 1價(jià)離子可注入至350keV、2價(jià)離子可注入至700keV

           （Option：1價(jià)離子可注入至430keV、2價(jià)離子可注入至860keV）

    • 通過Dual-End-Station（雙工位）實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)能；

           （A系4"高溫ESC/B系3"高溫ESC、A系6"高溫ESC/B系6"常溫ESC等等，可配合客戶的希望就行規(guī)格配置）

    • 可減輕操作員的負(fù)擔(dān)

    •      緊湊式設(shè)計(jì)

    • 可大范圍對(duì)應(yīng)從試作到量產(chǎn)的各類需求

     
  • 產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application

  • •  對(duì)應(yīng)SiC的離子注入裝置。

  • 產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters
• 產(chǎn)品系列

  • 設(shè)備(按類型分)
    蒸發(fā)設(shè)備 退火設(shè)備 蒸餾設(shè)備 氦檢漏設(shè)備 凍結(jié)干燥設(shè)備 卷繞設(shè)備 真空爐 CVD設(shè)備 離子注入設(shè)備 去膠設(shè)備 濺射設(shè)備 刻蝕設(shè)備 其他
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