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• 去膠設(shè)備NA-1300系列
  

  從關(guān)鍵的新世代晶圓制程到晶圓級封裝，Luminous NA系列可對應(yīng)廣范圍的各類晶圓尺寸的各類工藝需求。

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  若想了解更多請致電182-2185-4021

  • 產(chǎn)品特性 / Product characteristics

  •   •極端的次世代晶圓工藝必須的 1 x 10¹⁶atoms/cm²以上離子注入剝離工藝·PI去除工藝中，可實(shí)現(xiàn)低顆粒工藝。

    •    添加F系氣體工藝最適合的腔體構(gòu)成，可對應(yīng)低顆粒需求。因此，從普通PR到離子注入剝離、有機(jī)膜剝離（PI，DFR等）、氧化膜刻蝕等非常廣泛的工藝均可對應(yīng)。

    •   采用簡單的設(shè)備構(gòu)成可同時(shí)實(shí)現(xiàn)“卓越的維修性·信賴性”。

    •     有彈性的腔體構(gòu)成選擇（μ波、RIE、μ波＋RIE），可實(shí)現(xiàn)豐富的搬送路經(jīng)。

    •   僅設(shè)定工藝菜單即可切換晶圓尺寸，晶圓尺寸變更非常容易實(shí)現(xiàn)。

  • 產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application

  • • 前道后端工藝的離子注入剝離工藝(1 x 10¹⁶atoms/cm²以上)的PI除去

    • 添加CF₄工藝必要的晶圓工藝(電子部件?LED)

    • 芯片級封裝的BUMP工藝

    • CCD顏色過濾膜的制造工藝

     
  • 產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters
• 產(chǎn)品系列

  • 設(shè)備(按類型分)
    蒸發(fā)設(shè)備 退火設(shè)備 蒸餾設(shè)備 氦檢漏設(shè)備 凍結(jié)干燥設(shè)備 卷繞設(shè)備 真空爐 CVD設(shè)備 離子注入設(shè)備 去膠設(shè)備 濺射設(shè)備 刻蝕設(shè)備 其他
  • 設(shè)備(按用途分)
    FPD&PV設(shè)備 半導(dǎo)體設(shè)備 電子設(shè)備 產(chǎn)業(yè)機(jī)器
  • 真空標(biāo)準(zhǔn)部件
    真空泵 氣體分析計(jì) 成膜用電源 超高真空部件 微量精密攪拌機(jī) 薄膜計(jì)測 分子間相互作用解析裝置 光學(xué)工藝模擬器 軟件 真空搬運(yùn)機(jī)械手 檢漏儀 真空計(jì) 真空閥
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