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• 批處理式自然氧化膜去除設(shè)備 RISE-300
  

  批處理式自然氧化膜去除設(shè)備RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等難以去除的自然氧化膜的批處理式預(yù)清洗裝置?？商幚?00mm，300mm尺寸晶圓。

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  • 產(chǎn)品特性 / Product characteristics

  • • 高產(chǎn)率以及低CoO

    • 良好的刻蝕均一性（小于±5%/批）和再現(xiàn)性

    • 干法刻蝕

    • Damage-Free（遠(yuǎn)端等離子、低溫工藝）

    • 自對準(zhǔn)接觸電阻僅為濕法的1/2

    • 靈活的裝置布局

    • 高維護性（方便的側(cè)面維護）

    • 300mm晶圓批處理：50枚/批

     
  • 產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application

  • • 自對準(zhǔn)接觸形成工藝前處理

    • 電容工藝前處理

    • 晶膜生長前處理

    • Co/Ni自對準(zhǔn)多晶硅化物的前處理

  • 產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters
• 產(chǎn)品系列

  • 設(shè)備(按類型分)
    蒸發(fā)設(shè)備 退火設(shè)備 蒸餾設(shè)備 氦檢漏設(shè)備 凍結(jié)干燥設(shè)備 卷繞設(shè)備 真空爐 CVD設(shè)備 離子注入設(shè)備 去膠設(shè)備 濺射設(shè)備 刻蝕設(shè)備 其他
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